化學(xué)氣相沉積
日期：2017-7-4 8:53:12 作者： 流量：
化學(xué)氣相沉積技術(shù)是利用氣態(tài)源物質(zhì)表面上進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)，生成固態(tài)物質(zhì)的技術(shù)。在化學(xué)氣相沉積過程中，氣體的壓強(qiáng)可以使常壓或低壓。采用低氣壓化學(xué)氣相沉積時(shí)，用旋片式機(jī)械泵使反應(yīng)室的氣體壓強(qiáng)維持在100Pa左右。氣態(tài)物質(zhì)間的反應(yīng)一般是在熱激活條件下進(jìn)行的，多采用電阻加熱或感應(yīng)加熱方式將反應(yīng)室加熱至高溫。CVD的氣源物質(zhì)可以是氣態(tài)源、液態(tài)源和固態(tài)源。在CVD設(shè)備中，通常最關(guān)鍵的部分是反應(yīng)室的結(jié)構(gòu)，有垂直放置的反應(yīng)室和水平放置的反應(yīng)室。他們通常適合在大氣壓或以下的氣壓下采用，通常采用對(duì)稱設(shè)計(jì)以保證熱量、反應(yīng)物質(zhì)和氣體均勻傳送。相對(duì)于垂直放置的反應(yīng)室，水平反應(yīng)室具有生產(chǎn)效率高、使用方便的優(yōu)點(diǎn)，但是也有沉積涂層相對(duì)不太均勻的缺點(diǎn)。它垂直于軸向的截面可以是圓形的，也可以是矩形的，為了獲得更均勻的涂層沉積速度，在這類反應(yīng)室中，基座通常以一定的角度傾斜。
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